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Como cada año, la European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition (EU PVSEV) se celebra en un país europeo. En esta ocasión, fue en Lisboa del 18 al 22 de septiembre de 2023. Las principales áreas temáticas tratadas fueron las siguientes: Materiales y Células de Silicio, Películas Finas y Nuevos Conceptos, Módulos Fotovoltaicos y Componentes BoS, Ingeniería de Sistemas FV, FV Integrada/Aplicada y FV en la Transición Energética. Habían varios subtemas. Por ejemplo, en Materiales y células de silicio se tenía: Materias primas, Cristalización, Obleas, Ingeniería de defectos, Rutas de alta temperatura para células de Si, Rutas de baja temperatura para células de Si, Caracterización y modelización de células de Si, Fabricación de células de Si. Por ello, aprovechamos la oportunidad para presentar nuestro trabajo, publicado en…
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Recientemente, en el blog de COMSOL, Mark Cops exploró uno de los desafíos de la acústica de salas, en lo que respecta al modelado y la simulación. Nos referimos a modelar con precisión una sala en todo el rango de frecuencia. En este artículo Mark analiza un enfoque híbrido para modelar la acústica de una sala en el software COMSOL Multiphysics® donde los resultados de múltiples métodos se integran en un solo modelo, mejorando así la precisión y manteniendo la viabilidad.
En otro artículo del blog de COMSOL Mads Herring Jensen utiliza la funcionalidad de acoplamiento de rayos FEM disponible en el software COMSOL Multiphysics® para modelar la respuesta de un pequeño altavoz inteligente colocado sobre una mesa en una habitación pequeña. Además de utilizar esta funcionalidad, utiliza un acoplamiento manual para obtener una descripción más…
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En un artículo anterior de las noticias hemos hablado del proceso del grabado químico húmedo (wet chemical etching), el cual es uno de los procesos fundamentales en la manufactura de dispositivos semiconductores. Siguiendo con esta línea, la de comprender mejor y optimizar algún aspecto o procesos implicados, describiremos el proceso de Chemical Vapor Deposition o CVD (Deposición Química en Fase de Vapor).
La deposición química en fase vapor (CVD) permite el crecimiento de películas delgadas (thin films) sobre un sustrato mediante la adsorción y reacción de moléculas y fragmentos moleculares sobre una superficie. Existe una gran familia de procesos CVD donde se modifican algunas propiedades del medio tales como Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) [1] o el Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) [2]. Ver la primera y…
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Cualquiera que sea el dispositivo semiconductor para desarrollar y optimizar, se requieren una serie de etapas de manufactura para llegar al producto final. Entre dichos dispositivos se tienen, por ejemplo: transistores, células solares, sensores, diodos, LED, entre otros. Las etapas o procesos requeridos son los de (1) limpieza de superficies debido a la presencia de metales y material orgánico o formación de óxidos, (2) mejora o modificación de la superficie para crear canales, junturas u otro propósito, (3) deposición de otras capas como dieléctricos y (4) la creación de contactos eléctricos para la colección o transporte externa de portadores de carga.
En esta ocasión tocamos el tema de Wet chemical etching (grabado químico húmedo) para una geometría 2D bajo flujo laminar. El concepto subyacente se puede aprender de manera práctica…
